36nH, 480mA, 0402 RF-Induktivität, keramischer Drahtgewickelter Chip-Induktor
SWI0402HP36N
RF Keramikdraht gewickelter Chip-Induktor, allgemeine Klasse
36nH, 480mA, 0402 RF Keramischer Drahtgewickelter Chip-Induktor der SWI HP-Serie im Vergleich zu anderen SWI-Serien hat einen größeren Strombereich und eine minimale Toleranz von 2%, Fortschritt in einer höheren Selbstresonanzfrequenz (SRF), hohen Q-Faktor und wird häufig in Kommunikationsanwendungen wie Mobiltelefonen, Kabelmodems, ADSL, Repeatern, Bluetooth und anderen elektronischen Geräten eingesetzt.
Produkteigenschaften
- Höhere Selbstresonanzfrequenz (SRF)
- Hoher Q-Faktor
- Hohe Stromstärke
- Enger Toleranzbereich ± 0,2nH und 2% verfügbar
- Betriebstemperatur: -40°C ~ +125°C (einschließlich Selbsttemperaturerhöhung)
Produktanwendungen
- Metaverse-Anwendung
- RF-Schaltungen
| Produktkategorie | RF-Induktivität - Keramikdraht gewickelte Chip-Induktivität | Induktivität (µH) | 0.036 |
| Teilenummer | SWI0402HP36N | Toleranz | ±2% |
| Grad | Allgemein | RDC (Ω) | 0.36 |
| Länge (mm) | 1 | IDC (A) | 0.48 |
| Breite (mm) | 0.55 | Betriebstemp.°C (NIEDRIG) | -40 |
| Höhe (mm) | 0.5 | Betriebstemp.°C (HOCH) | 125 |
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RF Keramischer Drahtgewickelter Chip-Induktor SWI0402HP Serien-Datenblatt
Enthält Abmessungen, elektrische Eigenschaften und Kurvendiagramme zu Ihrer Referenz
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Entwickelt mit proprietärer keramischer Drahtwicklungstechnologie und IATF16949-Qualitätszertifizierung bietet dieser RF-Induktor überlegene Zuverlässigkeit in Metaverse-Anwendungen und RF-Schaltungen, die von -40 °C bis +125 °C betrieben werden. Der kompakte 0402-Formfaktor in Kombination mit einer Stromstärke von 480 mA bietet Designflexibilität für moderne Hersteller von Kommunikationsgeräten. Das Engagement von ABC ATEC für Anpassung und Qualitätssicherung gewährleistet, dass Ihre RF-Schaltungsdesigns optimale Leistung bei gleichzeitiger Kosten-effizienz erreichen. Kontaktieren Sie noch heute unser Team, um zu besprechen, wie unsere keramischen Chip-Induktivitäten Ihr Kommunikationsgerät der nächsten Generation verbessern können.


